廈門濺射鍍膜/廈門濺射鍍膜廠家/廈門濺射鍍膜價格/玉通 廈門玉通光電有限公司，自2005年以來是一家專門從事真空鍍膜行業，以研發、生產為一體的科技公司。 2012年7月，本公司擴大了產業規模，新上了福建省首條卷繞鍍膜生產線，廠房更新至海滄新陽工業區，成立了真空鍍膜行業研發小組，組織國內外多名大學的、學者參與到研發中來，成立了聯合研發試驗基地。本公司現有研究生等科技人員6名，三條生產線，年生產量70萬㎡。 本公司產品范圍：ITO導電薄膜、ITO導電玻璃、PMMA、PC、PET等板材鍍膜。 廈門玉通光電有限公司倡導“求真、務實、誠信、創新”的發展核心理念，以誠信為本、質量的宗旨，為廣大國內外客商提供的服務。 廈門玉通光電有限公司，自2005年以來是一家專門從事真空鍍膜行業，以研發、生產為一體的科技公司。公司生產ITO導電膜、光學膜、導電膜、彩色膜、非導電膜、裝飾膜、防爆膜 是為了在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率的方法。 在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。 磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于 磁控濺射一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。 磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。